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Niob-Target

Niob-Target

Produktdetails

Niob-Targettechnologie

Niob-Targete werden mittels Elektronenstrahlveredelung aus Niob-Ingots hergestellt. Die Targetfertigung umfasst: mechanische Verformung, Bearbeitung (Abdrehen und Planfräsen), Vakuum-Rekristallisationsglühen und abschließende chemische Behandlung.

Um die Spaltöffnungen im Material zu reduzieren und die Leistung des Sputterfilms zu verbessern, ist üblicherweise eine höhere Dichte des Targetmaterials erforderlich. Die Dichte beeinflusst nicht nur die Sputterrate, sondern auch die elektrischen und optischen Eigenschaften des Films. Je höher die Dichte des Targetmaterials ist, desto besser ist die Filmleistung.

Darüber hinaus kann ein Material mit erhöhter Dichte und Festigkeit der Zielsubstanz die thermische Belastung während des Sputterprozesses besser abfangen. Die Dichte ist zudem einer der wichtigsten Leistungsindikatoren für das Zielmaterial.

Our Niob-Target After Use

Wie die Abbildung zeigt, ist die Oberfläche des Produkts nach der Anwendung spiegelglatt. Die gleichmäßige Korngröße und die gleichbleibende Qualität unserer Produkte gewährleisten den perfekten Effekt. Unsere Niob-10-Zirkonium-Targets (Nb10Zr) und Niob-1-Zirkonium-Targets (Nb-1Zr) erreichen dieselbe Qualität.

Niob-Target-Anwendung

Als Hauptbestandteil von Niob und seinen Legierungsfilmen werden Niob-Sputtertargetmaterialien in großem Umfang in Farb-TFT-LCD-Panel-PCs, optischen Linsen, elektronischer Bildgebung, Datenspeicherung, Solarzellen, Glasbeschichtungen sowie in korrosionsbeständigen Umgebungen wie der Schifffahrt und der chemischen Produktion eingesetzt.

Heutzutage werden Niob-Sputtertargetmaterialien hauptsächlich in modernen Touchscreens, Flachbildschirmen und Oberflächenbeschichtungen für Energiespargläser eingesetzt. Sie haben eine Antireflexionswirkung auf Glasbildschirmen.

Niob-Target-Anwendung

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