T - 111

  • T-111 Stange
  • Tantal-Wolfram-Hafnium-Legierung

Produktdetails

T-111 Einleitung

Tantal-Wolfram-Hafnium-Legierungen werden aus Tantal hergestellt, dem bestimmte Mengen an Wolfram und Hafnium zugesetzt werden. Sie basieren auf der Wolframlegierung. Das aktive Element Hafnium sowie die interstitiellen Elemente Sauerstoff und Kohlenstoff bilden diffuse HfO₂- und HfC-Partikel, wodurch die Kriechfestigkeit der Legierung und die Korrosionsbeständigkeit gegenüber Alkalimetallen verbessert werden. Von 1960 bis 1963 wurde in den USA erfolgreich die Legierung Ta-8W-2Hf-0,1Zr-0,1Nb-0,4Mo entwickelt. Je nach Verstärkungsschema werden Tantal-Wolfram-Hafnium-Legierungen in fest-löslich-verfestigte und dispersionsverfestigte Legierungen unterteilt.

Physikalische Eigenschaften von T-111-Legierungen
Produkte Nominale Zusammensetzung (Gew.-%) Physikalische Eigenschaften
Dichte
/g·cm-3
Schmelz-
punkt/°C
Linienausdehnungs-
koeffizient/10-6K-1
Rekristallisations-
temperatur/°C
Glüh-
temperatur/°C
Erhöhung der Sprödübergangs-
temperatur/°C
T-111 Ta-8W-2Hf-0.1Zr-0.1Nb-0.04Mo 16.73 2982 4.2 (1649˚C) 1427 - 1649 1093 - 1316 - 196
Mechanische Eigenschaften von Tantallegierungen (21 °C)
Produkte Elastizitätsmodul/MPa Zugfestigkeit/MPa Streckgrenze/MPa Dehnung/% Material Formular
T-111   703 773 29 Verschiedene Formulare

Sollten Sie Hilfe benötigen, kontaktieren Sie uns bitte.